Forstå fordelene ved verdens reneste siliciumtype
Fra Wikipedia
Float Zone silicium (FZ) er meget rent silicium, fremstillet ved vertikal zonesmeltning. Processen blev udviklet på Bell Labs af Henry Theuerer i 1955.
I den lodrette konfiguration har smeltet silicium tilstrækkeligt med overfladespænding til at forhindre ladningen i at separere. Den største fordel er digelfri krystalvækst, som forhindrer kontaminering af silicium fra selve beholderen, og Float Zone silicium er derfor et ultrarent alternativ til krystaller dyrket med Czochralski-metoden.
Koncentrationerne af lette urenheder, såsom kulstof (C) og oxygen (O2) elementer, er ekstremt lave. En anden let urenhed, nitrogen (N2), hjælper med at kontrollere mikrodefekter og medfører en forbedring af FZ-skivernes mekaniske styrke.
Anvendelsesområde
Float Zone silicium er et ideelt materiale til højspændingsapplikationer og bruges typisk til powerelektronikkomponenter og detektorer, hvor høj elektrisk modstand er påkrævet. Det er meget gennemsigtigt for terahertz-stråling og bruges til at fremstille optiske komponenter, såsom linser og vinduer, i terahertz-applikationer. Det bruges også til solceller på satellitter, da det har en højere konverteringseffektivitet. Et nyere anvendelsesområde har vist sig med fremkomsten af siliciumbaserede kvantecomputere.
Topsil GlobalWafers A/S – CVR: 37842222 – Siliciumvej 1, DK-3600 Frederikssund – Phone: +45 47 36 56 00
